EDA技術(shù)進(jìn)入新的發(fā)展時(shí)代

　　“一體化EDA工具和統一的數據庫加速I(mǎi)C設計速度”、“90nm和65nm及以下制造技術(shù)的發(fā)展促進(jìn)EDA技術(shù)的革新”、“IP復用將不斷增長(cháng)”以及“SystemVerilog將成為下一代描述語(yǔ)言”等是de Geus在接受《電子工程專(zhuān)輯》采訪(fǎng)中強調的部分主要內容。EDA工具已伴隨著(zhù)制造技術(shù)的進(jìn)步進(jìn)入一個(gè)新的發(fā)展時(shí)代。

　　Synopsys公司主席兼CEO Aart de Geus博士最近抵達上�？疾熘袊鳨DA市場(chǎng)的情況。在能環(huán)視上海市貌的金茂凱悅酒店里，我采訪(fǎng)了這位曾被美國《Electronic Business》雜志評為2002年度最佳CEO，也是一位吉它手的Synopsys掌門(mén)人，請他就EDA行業(yè)的技術(shù)發(fā)展方向發(fā)表了看法。在此之后，Synopsys中國區總經(jīng)理潘建岳也接受了本刊的采訪(fǎng)。

　　一體化工具和IP是發(fā)展方向

　　一體化的工具使用戶(hù)受益于一個(gè)統一的用戶(hù)界面，避免了在不同的工具間進(jìn)行數據轉換等繁瑣的操作。目前，Synopsys和Cadence兩大EDA工具供應商分別推出了集成眾多工具在內的一體化設計工具，同時(shí)，也在分別推出各自的標準數據庫，以進(jìn)一步簡(jiǎn)化設計流程。

　　Galaxy平臺是Synopsys近期推出的先進(jìn)IC設計平臺，整合了Synopsys公司的許多工具，覆蓋了從設計編譯、布局編譯、物理編譯、DFT編譯以及硅片制造的全部流程，同時(shí)還在內部集成了向第三方開(kāi)放的Milkyway數據庫，將不同設計階段中的數據、時(shí)序、計算以及種種約束條件協(xié)調起來(lái)。VSPACE=12 HSPACE=12 ALT="Synopsys公司主席兼CEO Aart de Geus：“一體化EDA工具和統一的數據庫加速I(mǎi)C設計速度。”">

　　伴隨著(zhù)設計復雜度的不斷提高，中國用戶(hù)要求更集成化的工具。“Galaxy平臺可以直接面向90nm以及以下的設計，在中國已經(jīng)有幾家用戶(hù)。利用這種一體化設計工具提供的統一庫和統一界面可以加速中國IC工程師的設計速度。”de Geus表示。“中國目前正處于IC設計產(chǎn)品的起步階段，我注意到上海在短時(shí)間里就增加了30至40家IC設計公司，在這種情況下一體化和帶有標準數據庫的工具的意義就更大。”

　　當談及Synopsys是否也計劃開(kāi)發(fā)新的模擬和混合信號設計工具并將其集成到Galaxy平臺中時(shí)，“Synopsys已在提供模擬和混合信號的仿真和驗證產(chǎn)品，我們目前正著(zhù)重在模擬電路的實(shí)現上，并已有利用EDA工具進(jìn)行模擬電路設計的能力，你會(huì )逐步看到我們的相關(guān)產(chǎn)品問(wèn)世。”de Geus笑著(zhù)說(shuō)。

　　IP的合理應用是加速產(chǎn)品設計流程的一個(gè)有效途徑。按照美國EDA聯(lián)盟(The EDA Consortium)2003年一季度的統計數據表明，IP產(chǎn)品的銷(xiāo)售額是全球EDA工業(yè)中增加最快的一個(gè)領(lǐng)域，較2002年同期增加了36%。“IP復用是IC設計業(yè)中絕對的發(fā)展趨勢，”de Geus認為。他介紹道，Synopsys已成為全球第三大獨立IP供應商，僅次于A(yíng)RM和Rambus兩家公司，并重點(diǎn)開(kāi)發(fā)應用面廣的PCI、USB等標準IP庫。

　　制造工藝進(jìn)步促進(jìn)EDA工具的革新

　　全球半導體工藝向90nm、65nm的發(fā)展趨勢對EDA工具提出了更多的挑戰，而隨著(zhù)IC物理尺寸的不斷縮小，內部互接的分析成為主要的瓶頸。

　　“在這個(gè)階段，交叉耦合電容、IR壓降以及電感的影響都是致命的，”de Geus表示，“這就要求EDA工具在設計規劃、實(shí)現驗證等領(lǐng)域有重大的改進(jìn)。”隨著(zhù)工藝復雜性的提高，布線(xiàn)在考慮阻抗、感抗和容抗的同時(shí)，必須考慮硅工藝的規則，包括過(guò)孔和填充等以前未必是主要的因素的影響。Galaxy平臺已經(jīng)考慮了下一代半導體工藝的許多苛刻要求。

　　“對于中國市場(chǎng)來(lái)看，目前主要集中在0.35、0.25和0.18微米工藝技術(shù)上，而0.18會(huì )成為今年和明年的主流。”de Geus認為，“這與中國的大多數IC產(chǎn)品對成本要求很敏感是相吻合的。”

　　SystemVerilog將成為下一代的描述語(yǔ)言

　　描述語(yǔ)言一直是EDA業(yè)中重要的一環(huán)，VHDL和Verilog目前是中國的主流設計語(yǔ)言。然而，隨著(zhù)IC復雜度的不斷提高，從更高層次入手對系統進(jìn)行描述是描述語(yǔ)言未來(lái)的發(fā)展方向。

　　“SystemVerilog將最終取代VHDL。”這是de Geus對描述語(yǔ)言發(fā)展方向上的預測，在進(jìn)一步解釋這一預測時(shí)，他指出多年來(lái)IC設計中更關(guān)注的是仿真，而目前驗證在IC的整個(gè)設計周期中已經(jīng)占據了60%甚至更多的時(shí)間，而SystemVerilog可以有效地支持上述兩者的需求，同時(shí)SystemVerilog是與Verilog完全兼容的。“VHDL還會(huì )在很長(cháng)時(shí)間內存在，但SystemVerilog將取代它，并為SystemC的發(fā)展鋪平道路。”de Geus表示目前全球Verilog的增長(cháng)率較VHDL要快，以前是各占半壁江山，而現在Verilog約占六成。按照Synopsys中國區總經(jīng)理潘建岳的分析，目前中國Verilog的用戶(hù)占2/3，而VHDL用戶(hù)約占1/3。

　　SystemVerilog是Verilog在增加了聲明之后發(fā)展而來(lái)的。“de Geus博士分別于1992年、1995年、1997年、2000年等時(shí)段提出了關(guān)注設計復用、時(shí)序收斂、信號完整性和可制造性設計的前瞻性預言，呼吁業(yè)界重視這些問(wèn)題，這些預測都相繼在幾年后得到了印證，我相信他這次提出的SystemVerilog推論也會(huì )在未來(lái)幾年內得到證實(shí)。”潘建岳表示。VSPACE=12 HSPACE=12 ALT="Synopsys中國區總經(jīng)理潘建岳：“中國本地IC設計公司首要關(guān)注的應該是設計的芯片是否有需求。”">

　　中國IC設計公司任重道遠

　　中國在電子設計自動(dòng)化方面取得了神奇的進(jìn)展，但中國工程師仍需要花上平均約兩年時(shí)間才能真正開(kāi)展最先進(jìn)的硅片設計。這是de Geus對中國IC設計行業(yè)的評估。他認為如蜂窩電話(huà)、PC以及音頻產(chǎn)品等面向消費者的產(chǎn)品的大規模發(fā)展是促進(jìn)中國IC設計市場(chǎng)的主要因素之一，同時(shí)，制造業(yè)、企業(yè)與教育行業(yè)也對EDA著(zhù)巨大的需求。

　　“我認為目前中國IC設計公司最合適的目標市場(chǎng)還是在消費類(lèi)產(chǎn)品上，還包括消費類(lèi)與通信類(lèi)相融合的產(chǎn)品。這類(lèi)產(chǎn)品面向大眾，而且對價(jià)格很敏感。”de Geus提出了他對中國IC設計公司發(fā)展方向的觀(guān)點(diǎn)，而在對于整個(gè)中國IC產(chǎn)業(yè)鏈的看法上，他指出：“中國目前最重要的是加強IC設計方面的教育，使得中國工程師更具有‘產(chǎn)能’。同時(shí)，中國現在還沒(méi)有先進(jìn)的材料。”而這種優(yōu)勢還主要集中在美國等國家。

　　以潘建岳的觀(guān)點(diǎn)來(lái)看，中國在IC產(chǎn)業(yè)鏈的建設已取得了很大的成就，進(jìn)入IC設計的門(mén)檻也越來(lái)越低。“中國本地IC設計公司首要關(guān)注的應該是設計的芯片是否有需求，要能進(jìn)入市場(chǎng);第二是要具備良好的管理能力。”潘建岳表示，“中國目前更需要兩方面的服務(wù)和支持，一方面是整體的工具，二是設計方法學(xué)。整體上看，中國IC設計領(lǐng)域中前端的設計相對較成熟，而后端，例如從網(wǎng)表到GDSII等，設計的挑戰更大。但中國市場(chǎng)對設計工具的需求越來(lái)越與國際接軌，這是總體上的趨勢。”

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