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微電子智造中國芯論文
隨著(zhù)信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,集成電路(也就是常說(shuō)的“芯片”)成為手機、平板電腦等電子移動(dòng)終端離不開(kāi)的設備,而光刻機是半導體芯片制造業(yè)中的最核心設備。
以光刻機為代表的高端半導體裝備支撐著(zhù)集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展,芯片越做越小,集成的電路越來(lái)越多,能使終端變得小巧玲瓏。
在光刻機領(lǐng)域,上海微電子裝備有限公司(下稱(chēng)“SMEE”)取得了重要突破,并在先進(jìn)封裝光刻機產(chǎn)品方面形成了系列化和量產(chǎn)化,在國際同類(lèi)產(chǎn)品中處于先進(jìn)水平,還實(shí)現了光刻機海外市場(chǎng)的銷(xiāo)售突破。SMEE也被列入國家發(fā)改委2016年1月底公布的國家認定企業(yè)技術(shù)中心名單。
在微觀(guān)世界里“造房子”
近日,在浦東張江園區SMEE展覽館里,SMEE人事總監賀躍進(jìn)向《中國經(jīng)濟周刊》記者介紹了組成光刻機的核心部件。他將制造光刻機比作是在微觀(guān)世界里“造房子”——成像系統由幾十個(gè)直徑為200~300毫米的透鏡組成,定位精度都是納米級。
微米級的瞬時(shí)傳輸控制技術(shù),猶如兩架空客以1000/小時(shí)公里同步高速運動(dòng),在瞬間對接穿針引線(xiàn);玻璃鏡面加工等精度,誤差不會(huì )超過(guò)0.5毫米。
SMEE總經(jīng)理賀榮明接受《中國經(jīng)濟周刊》記者采訪(fǎng)時(shí)表示,光刻機是集成電路裝備中技術(shù)難度最高、價(jià)值量最大的部分,由于技術(shù)的超高難度導致在全世界形成了超高的技術(shù)門(mén)檻。
據了解,當今世界能夠擁有這種技術(shù)、生產(chǎn)這種產(chǎn)品的只有兩三個(gè)國家的兩三家公司。賀榮明表示,集成電路行業(yè)發(fā)展的很多技術(shù)路線(xiàn)、工藝路線(xiàn)是非常依賴(lài)于光科技的發(fā)展路線(xiàn),所以從這個(gè)角度,它就成為信息產(chǎn)業(yè)集成電路行業(yè)發(fā)展的重要基石;
從另一個(gè)角度來(lái)講,我國正在進(jìn)行大的結構調整,對集成電路產(chǎn)業(yè)提出了非常高的期待與要求,不僅涉及到整個(gè)國家的產(chǎn)品結構調整發(fā)展,從某種程度它也涉及到整個(gè)信息產(chǎn)業(yè)的安全,所以如何在集成電路行業(yè)擁有自己的核心裝備,對國家國民經(jīng)濟的發(fā)展就至為重要。
光刻機是集成度非常高,涉及的門(mén)類(lèi)、領(lǐng)域、科技種類(lèi)非常廣泛的集成性的設備,由于這種設備的發(fā)展會(huì )牽引帶動(dòng)很多關(guān)鍵單元技術(shù)、子技術(shù)、子學(xué)科的發(fā)展,“牽一發(fā)而動(dòng)全身”,它可以牽引推動(dòng)整個(gè)高科技基礎領(lǐng)域的發(fā)展。
據了解,以光刻機為代表的產(chǎn)品主要應用于四大領(lǐng)域,芯片制造、芯片先進(jìn)封裝、LED制造、下一代顯示屏制造。另外還有類(lèi)光科技產(chǎn)品,包括激光封裝、激光退火等設備,去年開(kāi)始在試驗,今年逐步開(kāi)始小批生產(chǎn),未來(lái)為移動(dòng)穿戴、智能時(shí)代提供產(chǎn)品。
賀榮明表示,光刻機的自主研發(fā)可以概括為一個(gè)“難”字,“因為難,有時(shí)候就逼著(zhù)你沒(méi)有后路背水一戰去創(chuàng )新!比魏我粋(gè)行業(yè)的發(fā)展,特別是高端裝備的發(fā)展,其實(shí)最重要的還是人才,光刻機人才與其他行業(yè)相比,涉及面更廣,有幾十個(gè)專(zhuān)業(yè),所有的技術(shù)在這個(gè)產(chǎn)品上匯聚、交雜,形成異常復雜的設備,對人才的廣泛性、多樣性提出更高要求。
不要只埋頭搞科研,還要會(huì )“沿途下蛋”
賀榮明告訴記者,高端光刻機開(kāi)發(fā)的周期非常長(cháng),難度也非常高,如果在整個(gè)過(guò)程中只是走研發(fā)的道路,而不是及時(shí)考慮產(chǎn)業(yè)化,那么對整個(gè)項目的開(kāi)發(fā)、人才團隊的鼓勵都會(huì )帶來(lái)管理上的困難 。SMEE的決策者們在決定以高端光刻機開(kāi)發(fā)為主線(xiàn)的同時(shí),每天都在考慮當離高端產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)還有一定高峰要攀登的時(shí)候,在“半山腰”、在“山腳”下,能不能把已經(jīng)掌握、部分掌握的技術(shù)變成產(chǎn)品,去服務(wù)于行業(yè);谶@個(gè)思路,SMEE就形成了很多“沿途下蛋”的產(chǎn)品。
比如說(shuō),同樣是光刻機,它在前道的產(chǎn)業(yè)化應用難度非常高,但是后道的先進(jìn)封裝對光刻機的應用越來(lái)越廣泛,可以先行進(jìn)入,所以SMEE就抓住了這個(gè)契機,開(kāi)發(fā)了一款適用于先進(jìn)封裝行業(yè)的光刻機。此前,這種光刻機完全依賴(lài)于進(jìn)口,而今SMEE 已經(jīng)占領(lǐng)了80%以上的國內市場(chǎng)。
現在市場(chǎng)上高端智能手機上都有SMEE 自主研發(fā)的先進(jìn)封裝光刻機的功勞。這樣一來(lái),產(chǎn)品的研發(fā)形成了一種階梯、波浪,“前面在不斷瞄準高科技的發(fā)展,同時(shí)它不斷把掌握的技術(shù)輻射為具有應用前景又能為國民經(jīng)濟、產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域提供很好技術(shù)支撐的產(chǎn)品,這樣兩個(gè)目標形成一種互動(dòng)、良性循環(huán)。
既通過(guò)高科技的研發(fā)來(lái)錘煉人才,又通過(guò)產(chǎn)品的市場(chǎng)化來(lái)打造工程性人才,這種人才的分合匯聚組合讓公司向兩維領(lǐng)域發(fā)展(一維是技術(shù)高度,一維是產(chǎn)業(yè)寬度),不讓公司變?yōu)榧兇獾难邪l(fā)機構,同時(shí)也不讓公司太功利化。這兩者融合能為公司將來(lái)高端光刻機的發(fā)展提供良好的發(fā)展模式!辟R榮明表示。
賀榮明直言,企業(yè)運營(yíng)的最大壓力在于技術(shù)突破和人才團隊的聚焦與持續發(fā)展。由于我國技術(shù)基礎比較薄弱,不但要攻克技術(shù)上的難點(diǎn),還要解決攻克過(guò)程中的管理問(wèn)題。
在供應鏈的打造和高科技行業(yè)上受到國外的限制等,使得我國整個(gè)技術(shù)門(mén)類(lèi)還不健全,整個(gè)資源鏈還不完善,現在一方面以自主創(chuàng )新為主,一方面用更寬泛的國際視野面向全球整合資源!拔覈咚侔l(fā)展,吸引了全球高科技人才、組織對我們充滿(mǎn)期待,這樣迎來(lái)了利用國際資源解決自身瓶頸,使得SMEE在堅持自主創(chuàng )新的同時(shí)全球化、國際化!
從跟蹤國際專(zhuān)利到不斷掌握擁有完全自主知識產(chǎn)權的高端光刻設備的總體設計技術(shù)、集成技術(shù)和關(guān)鍵單元技術(shù),SMEE形成了系列完整的產(chǎn)品,實(shí)現了“用中國人的光刻機造中國芯”的夢(mèng)想。 截至2015年底,SMEE獲得的專(zhuān)利總數1800項左右,85%是發(fā)明專(zhuān)利,800項已獲授權,其中國際發(fā)明專(zhuān)利140多項,獲授權的國際發(fā)明專(zhuān)利42項。這些專(zhuān)利滲透在各個(gè)產(chǎn)品之中,為高科技產(chǎn)品走向世界提供自主知識產(chǎn)權的法律保障。
SMEE在布局知識產(chǎn)權規劃時(shí),很早就成立了知識產(chǎn)權與技術(shù)管理部,有20多位知識產(chǎn)權工程師、法律專(zhuān)家,定期分析收集全球專(zhuān)業(yè)技術(shù)領(lǐng)域的各種專(zhuān)利,包括新產(chǎn)生專(zhuān)利、即將失效的專(zhuān)利等,每個(gè)季度,知識產(chǎn)權與技術(shù)管理部提交知識產(chǎn)權戰略工作報告,以供SMEE進(jìn)行戰略決策。
值得一提的是,每年SMEE以任務(wù)形式下達“專(zhuān)利指標”,并且與績(jì)效考核掛鉤,使產(chǎn)品進(jìn)入市場(chǎng)不侵權不被起訴,“比如先進(jìn)封裝光刻機技術(shù)有400項專(zhuān)利在保護著(zhù)它,使它很好地進(jìn)入市場(chǎng),用戶(hù)可以放心使用,我們也不會(huì )受到競爭對手的干擾!备呖萍计髽I(yè)發(fā)展,知識產(chǎn)權的戰略規劃與產(chǎn)品發(fā)展必須要同步。目前,SMEE已成為國家級知識產(chǎn)權示范企業(yè)。
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